第55回秋期講演大会のページへ

• 日時：平成30年8月27日（月）
• 場所：早稲田大学 西早稲田キャンパス55号館Ｎ棟1階 第二会議室
• 参加費：5,000円（領収書は当日発行。自由討論会は無料）
• 申込先： 日本電子材料技術協会 事務局 [E-mail] jems@jems1962.org
             担当：島村清史（物材機構）
• 交通案内: 　www.waseda.jp/fsci/access/（外部サイト）
                   地下鉄東京メトロ副都心線 西早稲田駅下車
                   出口3（早大理工方面口）がキャンパスに直結
• 主催：日本結晶成長学会 バルク成長分科会

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下記のとおり開催いたします。ご関係者はお集まりください。

• 日時：　平成 30 年 6 月 7 日（木）　14：00〜
• 場所：　新宿区百人町　（公社）日本セラミックス協会ビル　4階会議室

下記のとおり開催いたします。

• 日　時   平成 30 年 6 月 7 日（木）　15 時 30 分 ～ 15 時 50 分
• 場　所　（公社）日本セラミックス協会ビル 3F会議室

• 15時50分～15時55分　会長挨拶
• 15時55分～16時50分
• タイトル：「バリウムフェライト磁性体を用いた大容量データテープの開発」
• 講　師：野口　仁 氏（富士フィルム株式会社 記録メディア研究所 所長）

17時00分～　新宿サンパークホテル2階 レストラン椿

                      （新宿区百人町3-22-15/日本セラミックス協会ビル向かい）                 

上記に関するお問い合わせは事務局までご連絡ください。

• 事務局　E-mail：jems@jems1962.org